Laboratoř PVD technologií

Od 17. do 20. června se konala konference SPPT (Symposium on Plasma Physics and Technology) v Praze, které se z naše týmu zúčastnili Martin Ondryáš, Tomáš Rada a Lukáš Vrána. 

Příspěvky:

Martin Ondryáš: Impact of different m-HiPIMS parameters on deposition rate and flux ionization

Tomáš Rada: Preparation of thin films by reactive multi-pulse magnetron sputtering

Lukáš Vrána: Effects of Nitrogen Content on Microstructure and Mechanical Properties of High Entropy Nitride Coatings: DC Magnetron Sputtered Cr-Mn-Mo-Si-Y-(N) System