Laboratoř PVD technologií

Od 19. do 22. května se uskutečnila konference SVC Techcon 2025 v Nashvillu v USA a naši doktorandi Martin Ondryáš a Lukáš Vrána na ní představili svůj aktuální výzkum. Účast na této konferenci jim umožnila podpora od SVC. 

Přednášky:
M. Ondryáš: Impact of the pulse length in HiPIMS on the deposition rate, ion metal flux fraction and argon ion flux
L. Vrána: Influence of Nitride Formation Enthalpy and Atomic Size on the Structure and Properties of Cr-Mn-Mo-Si-Y-(N) Magnetron Sputtered High-Entropy Nitride Coatings