Laboratoř PVD technologií

Článek s názvem Synthesis and characterization of ceramic high entropy carbide thin films from the Cr-Hf-Mo-Ta-W refractory metal system byl publikován v časopise Surface and Coatings Technology. Článek popisuje depozici karbidů stabilizovaných vysokou entropii pomocí hybridního PVD-PECVD procesu a vlastnosti takto připravených povlaků. 

Článek s názvem Spatially resolved optical emission analysis of spokes in HiPIMS utilising Al, Cr, Cu, Ti, and W targets byl publikován v časopise Plasma Sources Science and Technology. Článek řeší problematiku plazmových nestabilit – spoků nad katodami z hliníku, chromu, mědi, titánu a wolframu pomocí optické emisní spektroskopie. 

Seznam našich dalších publikací naleznete zde.