Zpět
Nová publikace ve Vacuum
Článek s názvem Aluminum tantalum oxide thin films deposited at low temperature by pulsed direct current reactive magnetron sputtering for dielectric applications byl publikován v časopise Vacuum. Článek byl vytvořen ve spolupráci se společností HVM Plasma z Prahy a HUN-REN centrem pro energetický výzkum z Budapešti. Zabývá se vrtvami oxidu hliník-tantalu pro dielektrické aplikace.
Seznam našich dalších publikací naleznete zde.