Laboratoř PVD technologií

Článek s názvem On direct-current magnetron sputtering at industrial conditions with high ionization fraction of sputtered species byl publikován v časopise Surface and Coatings Technology. V článku jsou v průmyslových podmínkách porovnány dvě technologie magnetronového naprašování - konvenční stejnosměrné a F-type. Tyto techniky jsou porovnány na základě poměrů toků ionizovaných částic kovů poprvé měřeného pomocí tzv. "ionmetru" v průmyslové depoziční aparatuře.

Seznam našich dalších publikací naleznete zde.