Laboratoř PVD technologií

Zařízení pro depozici tenkých vrstev

Laboratoř PVD technologií je vybavena celkem třemi systémy pro depozici tenkých vrstev. Každý ze systémů má unikátní konfiguraci magnetonových hlav a zdrojů pro buzení plazmatu, což umožňuje připravit velmi široké spektrum tenkých vrstev různého složení na různé typy vzorků.

Používané depoziční systémy jsou velmi flexibilní. Při odprašování terčů lze do depoziční komory připustit reaktivní plyn a připravit tak oxidy, nitridy, hydridy či karbidy různé stechiometrie. Je možné odprašovat přímo i slitinové či keramické terče a připravit tak tenkou vrstvu prakticky libovolného složení bez přítomnosti reaktivního plynu. Vzorek lze před depozicí iontově očistit přímo v depoziční komoře a následně vyhřát na teplotu požadovanou pro růst krystalických tenkých vrstev. Je-li magnetonové plazma buzeno pulzy velkého výkonu, velmi silný iontový bombard rostoucí vrstvy může nahradit nutnost používání zvýšené teploty vzorků během depozice a je tedy možné připravit krystalické tenké vrstvy i na teplotně velmi citlivých vzorcích.

Materiálová analýza

Pro materiálovou analýzu a charakteristiku tenkých vrstev má laboratoř dostupné pokročilé přístrojové vybavení přímo na ÚFTP. K dispozici je určení morfologie povrchu vrstev, komplexní chemická analýza a mikrostrukturní analýza. Díky přesným indentorům jsou studovány mechanické a tribologické vlastnosti tenkých vrstev.

Diagnostika plazmatu

Studium plazmatu je umožněno díky moderním spektrometrům, rychlé ICCD kamery a sondové diagnostiky. Klíčovým prvkem diagnostiky plazmatu je spojení těchto technik a správné vyhodnocení experimentálních dat.